問題分析

側光拍攝導致臉部一側過曝、陰影過重、五官細節流失。核心策略：利用對稱性翻轉複製正常側皮膚覆蓋過曝區，難區（鼻子、額頭）則移植相似素材修補。

操作步驟

1. 臉部大面積過曝：翻轉複製法

• 套索工具選取正常側半臉（含完整五官結構），Ctrl+J 複製 → 編輯 > 變換 > 水平翻轉 → 移動對齊過曝側。
• 添加圖層蒙版，黑色柔邊筆刷（不透明度 30-50%）邊緣羽化融合，修復眉毛、眼型、臉頰輪廓。

2. 嘴唇區域精修

同法處理嘴唇上方、唇部過曝區，注意唇珠、唇峰結構對齊，蒙版精細過渡。

3. 鼻子難區：異體素材移植

臉部兩大難區：額頭、鼻子。鼻子結構複雜，翻轉法難勝任。
解決方案：尋找光線、角度、膚色相似的男孩鼻子素材 → 扣出鼻部 → 置入原圖 → 自由變換匹配透視、大小、光向 → 蒙版融合邊緣 → 圖章工具微調細節。

4. 統一磨皮與調色

合併圖層後，整體磨皮（建議 Portraiture 或高反差保留法），曲線調整對比與色溫，統一膚色色調。

前後對比

原圖臉部右側大面積過曝、鼻樑細節全失；成片光影均勻、五官結構完整、膚質自然，達到「無痕修復」等級。