教學目標

不依賴現成素材，純 PS 繪製標準拼圖圖案（凸耳凹槽），定義為圖案預設，再結合「斜面與浮雕」圖層樣式與混合模式，賦予真實立體質感，最終疊加至任意背景圖。

效果與素材

▲ 最終效果：立體拼圖紋理自然融合背景

▲ 應用背景素材圖

拼圖基礎單元繪製 (步驟 1-6)

1. 新建畫布與選區設定

新建文件（建議 200×200px），矩形選框工具設固定大小（如 80×80px），建立選區填充顏色（綠：R6 G213 B6 / 紅：R250 G101 B101），建立基礎色塊。

2. 繪製凸耳與凹槽

• 畫筆工具：直徑 20px、硬度 100%，點擊畫出連接點
• 橢圓選框工具：固定大小，在參考線交點畫正圓選區 → Delete 刪除 → 形成標準凸耳/凹槽形狀

3. 定義圖案預設

編輯 > 定義圖案，命名保存。此圖案已具備無縫平鋪特性。

立體質感賦予與背景融合 (步驟 7-14)

4. 背景圖填充圖案

開啟背景素材 → 新建圖層 1 → 編輯 > 填充 > 選擇剛定義的拼圖圖案 → 移動工具微調對齊位置。

5. 斜面與浮雕：關鍵立體化

雙擊圖層 1 開啟圖層樣式 → 勾選「斜面與浮雕」：

• 風格：外部斜面
• 技巧：平滑/凸塊雕刻（視效果選擇）
• 深度：100-150%
• 方向：向上
• 大小：視圖片解析度設 10-30px
• 柔化：0-5px
• 角度/高度：模擬光源方向（預設 120°/30°）
• 光暈/陰影模式：正常/正常，不透明度 30-50%

▲ 立體感初現，但顏色雜亂干擾背景

6. 去色 + 變暗模式：完美融合背景

執行「影像 > 調整 > 去色」移除雜亂色彩 → 圖層混合模式改「變暗」→ 亮度/對比度微調（亮度 -10，對比度 +20）→ 背景圖完美透出，拼圖紋理立體依存。

最終成果

核心知識點總結

1. 標準拼圖單元幾何構造：正方形基礎 + 4 個邊各一凸耳/凹槽，圓形過渡最自然
2. 定義圖案實現無縫平鋪：單元邊緣像素完美對接，無縫重複
3. 斜面與浮雕參數邏輯：深度/大小決定立體強度，角度/高度決定光源真實感
4. 去色+變暗模式雙重保障：去色移除色彩干擾，讓模式只保留明度變化；變暗模式僅保留比背景暗的像素，完美融合
5. 亮度/對比度最終校正：平衡拼圖紋理可見度與背景清晰度

延伸應用

• 將定義好的拼圖圖案存入預設管理器，永久可用
• 製作不同規格拼圖圖案組（大/中/小拼圖塊）
• 結合「圖案疊加」圖層樣式，非破壞性應用於任意圖層
• 變體：六邊形拼圖、不規則拼圖、3D 立體拼圖（需 3D 功能）