光影是合成真實感的靈魂。本教程系統梳理光源判讀、四大陰影類型（接觸/軟/投射/體積）、燈光塑造三大混合模式，並附贈「圖層樣式→創建圖層」將投影轉可編輯圖層的神級技巧，建立專業級光影認知框架。

一、光源判讀：一切光影的起點

• 直接觀察：高光位置、陰影方向、反光面亮度。
• 反推法：無明顯光源時，按現有物體陰影方向反推主光位置（如人物鼻影指向左上，主光在右上）。
• 多光源處理：主光決定主調，輔助光補亮陰影，輪廓光分離主體。合成時統一主光方向，輔助光可適度自由。

二、四大陰影類型與製作技法

A. 接觸陰影——物體著地的鐵證

定義：物體與地面接觸邊緣極窄、極深、極銳的陰影帶。
作用：消除「懸浮感」，建立重力真實感。
製作：新建圖層→軟邊筆（硬度 30%，不透明度 25%）→ 筆徑≈接觸寬度 → 由內向外沿接觸線繪製 → 高斯模糊 1–2 px 微調。

B. 軟陰影——環境光擴散的柔和投射

特徵：範圍大、邊緣羽化、透明度隨距離遞減。
製作：大軟筆（硬度 0%，不透明度 20–45%）→ 繞物體外輪廓環繞 → 遠離處筆壓遞減 → 圖層不透明度 30–50%。

C. 投射陰影——硬光下的幾何投影

兩大經典流程：

方法 1：複製層變黑+自由變換

1. 主體圖層 Ctrl+J 複製 → 色相/飽和度 亮度 -100（純黑）。
2. 移至主體圖層下方 → Ctrl+T 自由變換→右鍵選「扭曲/透視」匹配地面透視。
3. 高斯模糊（半徑視距離）→ 圖層不透明度 40–60% → 加蒙版漸變消隱遠端。

方法 2：圖層樣式「投影」→ 分離圖層（神技）

1. 主體圖層雙擊→「投影」：不透明度 100%、距離大、大小控制模糊度。
2. 右鍵投影效果→「創建圖層」→ 投影獨立成可編輯圖層！
3. 後續同方法 1：變換、模糊、蒙版、調不透明度。

三、燈光塑造：混合模式的藝術

核心混合模式三劍客

• 顏色減淡：高光強烈、色彩飽和，適合強烈直射光。
• 線性減淡(添加)：純亮度疊加，不偏色，適合柔光/環境光。
• 濾色：保留亮部、隱藏黑部，適合光暈、發光體、透射光。

實戰燈光構建流程

1. 造光源：大軟筆點一團暖黃/冷白 → 遍試混合模式 → 滿意即定。
2. 加光暈：濾鏡→渲染→鏡頭光暈 → 色相/飽和度調色 → 模式「濾色」去黑。
3. 環境互照：新建圖層→軟筆掃亮受光面（牆、地、周圍物體）→ 試三大模式 → 蒙版限制範圍。

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光影鐵律：
1. 單一主光源原則——全圖只有一個主光方向。
2. 陰影顏色非純黑——環境光顏色滲入陰影（如藍天下陰影偏藍）。
3. 邊緣硬度隨距離變化——近銳遠柔。
4. 反光不可忽視——地面/牆面反光填亮陰影暗部。
內化這四條，合成真實感將質變。