方法一：仿製圖章「變亮模式」——針對性提亮暗部

**原理**：變亮模式僅影響**比取樣點暗**的像素。眼袋陰影暗於正常膚色，正常膚色不受影響。

1. S 仿製圖章，柔邊筆寬≈眼袋高度 1/2，不透明度 50%，模式 **「變亮」**。
2. Alt 點擊眼袋下方/面頰**無陰影膚色**取樣。
3. 在眼袋陰影上來回繪畫，陰影逐漸提亮至取樣點亮度，**多筆疊加**直到消失。

方法二：修補工具「來源模式」——紋理整體遷移，速度更快

**原理**：以選區形狀為單位，將目標區域紋理**整體搬運**至來源區域，自動融合邊緣亮度/色彩。

1. Shift+J 選修補工具，模式 **「來源」**。
2. 套索式框選**單側眼袋區域**（Shift/Alt 微調選區）。
3. 在選區內按住滑鼠，**拖拽至臉部平滑無邊緣區域**（額頭、面頰空曠處），CS2+ 即時預覽雙選區。
4. 釋放滑鼠，眼袋瞬間被平滑紋理覆蓋。
5. 另側眼袋重複操作，Ctrl+D 取消選區。

前後對比

仿製圖章法前後

修補工具法前後

選擇建議

情況	推薦工具	理由
眼袋陰影重、結構性凹陷不明顯	仿製圖章「變亮」	像素級提亮，保留下方結構細節
眼袋結構明顯、需整體平滑	修補工具「來源」	整體紋理遷移快、邊緣自動羽化
混合型	先修補工具平滑結構 → 再仿製圖章微調殘留陰影	結合優勢，效果最佳

進階提示

• **修復畫筆** 同樣可用（取樣平滑膚 → 繪畫眼袋），但速度較慢。
• **新建空白圖層** 勾選選項列「所有圖層取樣」，非破壞操作，隨時可蒙版/調整不透明度。
• **眼袋下方淚溝高光** 若被誤提亮，用「燃燒工具」（曝光度 -10%，陰影模式）微調壓暗。