創新採用「剪貼蒙版分離高光層」技術：主體字層套用完整塑膠樣式，複製兩層清除樣式後重新賦予高光專用樣式，以剪貼蒙版限制高光顯示範圍，並手繪細線強化邊緣折射，達到極致真實的光面塑膠質感。

基礎環境與主體樣式

80×40mm、150dpi，漸變背景 #0080FF→黑。文字色 #6e787b。主體樣式：斜面浮雕（內描邊、深度 200%↑）、投影、光澤（環形等高線）、內發光、外陰影。

高光分離與剪貼蒙版技法

1. 複製兩層文字柵格化清除樣式。「副本 2」色 #D5D5D5 + 斜面浮雕（平緩斜面-凹槽等高線）。
2. 「副本」刪除左半部，「副本 2」建立剪貼蒙版限制高光僅顯示於右半部，模擬光源單側照射。
3. 剪貼邊緣手繪 1px 白線強化折射真實感。