幾分鐘掌握極具質感的斜面浮雕圖標風格。核心邏輯：圓角矩形疊加偏移路徑構建立方體基座 → 內外雙層斜面（正片疊底/濾色混合模式） → 簡易投影 → 圖標形狀同理構建內凸/外凸效果 → 透明度微調。全程無需 3D 效果，純 2D 操作極高效。

效果預覽

三步驟核心流程

1. 立方體基座雙斜面構建

• 圓角矩形（按 Shift 限制比例，箭頭鍵調圓角） → 漸變填色（30%→60% 黑）+ 1px 黑描邊。
• 複製貼前 → 「物件→路徑→偏移路徑」-3px → 選最上兩層「物件→復合路徑→建立」（Ctrl+8） → 去描邊、透明度「正片疊底」 → 形成內斜面。
• 重複偏移 -3px 兩次 → 建立復合路徑 → 去描邊、透明度「濾色」25% → 形成外高光斜面。
• 白橢圓疊黑橢圓混合（Ctrl+Alt+B）→ 正片疊底 75% → 置底層 → 簡易投影完成。

2. 圖標形狀浮雕化

• 繪製/放入簡單形狀（字母、圖示皆可） → 三層疊放（複製兩次貼前）。
• 最上兩層「路徑尋找器→減去頂層」 → 正片疊底 75% → 內凸陰影。
• 原形狀偏移 +3px → 黑白漸變（白在底） → 透明度「濾色」（建議加 75% 不透明度更自然）。

3. 細節微調

高光陰影不透明度、漸變角度、偏移數值均可根據圖標大小、視覺權重彈性調整。建議建立圖形樣式一鍵套用，批量產出風格統一的圖標集。

這套「偏移路徑 + 復合路徑 + 混合模式」組合拳，是打造扁平化設計中極具觸覺質感浮雕風格的最高效向量方案。