位圖轉矢量再轉 CAD 的工程級實操：

1. PS 前處理：模式 → CMYK → 前景色設四色黑 (CMYK 100%) → 選中目標圖層 Alt+Delete 填黑 → 新建圖層填黑替換原圖層 → 背景填白 → 模式 → 灰度 (拼合) → 模式 → 位圖 (50% 閾值) → 存 BMP (1-bit 無灰階)。
2. CDR 描摹矢量化：導入 BMP → 位圖 → 描摹位圖 → 快速描摹 → 刪除原位圖 → Ctrl+U 取消群組 → Ctrl+A 全選 → Ctrl+L 合併曲線。
3. 導出 DWG：Ctrl+E → 存為 DWG → 確認單位/縮比 → 打開 CAD 驗證線條閉合、圖層結構。

關鍵點：位圖模式 50% 閾值二值化 決定線條乾淨度；CDR 快速描摹 適合邊緣清晰的 Logo/圖紋；複雜圖片建議改用「輪廓描摹」或手動貝茲曲線重繪。8 步驟截圖含對話框參數，適合平面設計轉工程圖面、激光切割/雕刻檔案準備。