陰影是合成提質關鍵。本教程系統講解光影理論與四大實戰技法，為 23808 文章的完整版。

理論基礎：光源判斷

先確認是否需陰影，再定主光源向。由原圖高光/現有投影反推光源方向，合成必須一致。無明顯光源時，參考場景物體投影方向定光源。

三類陰影製作法

1. 接觸陰影

物體著地點陰影，較黑有透明度邊緣柔和。中等筆刷、硬度 30%、不透明度 25%、黑色，從內向外繪製。

2. 軟陰影

大柔筆刷、強度 25-40%、從物體向遠處透明度漸隱。雖無形狀卻大幅增真實感。

3. 投射陰影

物體遮光在地面投影，受形狀影響大。兩快速法：

• 複製層 → 色相/飽和度明度歸零 → 變換翻轉變形 → 高斯模糊 → 調透明度 → 蒙版按遠近漸隱。
• 圖層樣式「投影」調參 → 右鍵「建立圖層」分離 → 同法一後續調整。

光效製作

投射光

新層大柔筆點橘黃光源，遍試混合模式（正片疊底/篩色/線性減淡等）擇優，無效則換暗低飽和色。鏡頭光暈做光芒：矩形選區填黑 → 濾鏡渲染鏡頭光暈 → 色相/飽和度調色 → 模式「濾色」去黑。場景受光處同法。

輪廓光

側逆光產生邊緣亮邊，營造神秘唯美感。圖層樣式「內陰影」改顏色與混合模式即可快速產出（內陰影可改顏色，勿被名稱誤導）。