成果預覽

核心技法：偏移路徑建立雙輪廓 + 漸層填充模擬體積 + 疊加混合模式增質感

步驟詳解

1. 輸入文字並轉輪廓： 文字工具 (T) 輸入文字，選擇粗體字體。右鍵「建立輪廓」 (Shift+Ctrl+O)，再「取消編組」 (Shift+Ctrl+G) 獲取獨立字形路徑。

2. 偏移路徑產生外輪廓： 選取字形，「物件」>「路徑」>「偏移路徑」，偏移量設正值 (如 8pt)，勾選預覽調整至理想粗細。點確定獲得外輪廓組。原字形為內輪廓。

3. 分離雙層並分別漸層填充： 右鍵「取消編組」分離內外輪廓。分別為內、外輪廓套用線性/徑向漸層：外輪廓深色系表現側面陰影，內輪廓亮色系表現正面受光。漸層工具 (G) 拖動調整漸層角度與中心位置，增強立體感。

4. 高光切面製作： Alt+拖動複製內輪廓層，繪製橢圓與其相交，「路徑查找器」>「相交」獲得高光切面形狀。填白色，透明度面板模式「疊加」，不透明度 35%。

5. 投影收尾： 整體選取，「效果」>「風格化」>「投影」，設定 X/Y 偏移、模糊、顏色、不透明度，模式「正片疊底」。

變化延伸

• 霓虹燈管風： 外輪廓發光漸層 (外發光效果)，內輪廓深色，背景深色。
• 金屬鍍鉻風： 內外輪廓均用多色停金屬漸層 (白-灰-黑-灰-白)，高光切面改「正片疊底」。
• 立體拼貼風： 內外輪廓間插入紋理圖片，建立剪貼蒙版。

避坑指南

• 偏移量過大導致字形閉合區域 (如 O、D、P 內部) 變形 → 先用「美工刀」在內輪廓切開口再偏移，或用「路徑查找器」減去內部區域。
• 漸層角度混亂 → 統一光源方向，所有字形漸層角度一致 (如 -45° 為左上光源)。
• 投影過重 → 不透明度控制在 20-30%，模糊半徑 3-5pt，輕微暗示立體即可。