漏光與做舊是賦予數位影像膠片靈魂的關鍵技法。本教學提供兩條路徑：純 PS 手繪漏光 (零成本、完全可控、適合新手理解原理) 與 Alien Skin Exposure 4 專業外掛 (一鍵調用 500+ 膠片預設、漏光/邊緣燒孔/顆粒/色彩偏移全自動)。攝影師李小蕾實戰演示，助你快速掌握復古美學核心。

方法一：純 PS 手繪漏光 (全手動、可控性最強)

核心原理

漏光本質 = **高亮度、低對比、特定色相 (暖紅/橙/黃 或 冷青/藍) 的不規則塊狀/條狀光斑**，疊加在畫面邊緣/高光區，混合模式以「柔光」「疊加」「濾色」「正常」為主。

標準 5 步驟手繪流程

1. 選工具：畫筆工具 (B)，大尺寸 (畫面 1/3-1/2)、硬度 0% (極軟邊)、流量 10-30%。
2. 選顏色：暖漏光取 #FF6600, #FF9933, #FFCC66, #FF3366；冷漏光取 #6699FF, #99CCFF, #CCFFFF。建議建立色票組。
3. 建圖層：新建空白圖層 (Shift+Ctrl+N)，命名「漏光_暖_邊緣」等分類命名。
4. 繪製漏光：沿畫面邊緣 (尤以光源方向)、角落、高光過渡帶，隨意揮灑筆觸。模擬膠片機背漏光的隨機性：條狀、斑塊狀、放射狀、邊緣暈映。可建立多圖層，每層單一顏色/形態。
5. 混合模式與不透明度微調 (靈魂步驟)：
   • 柔光 / 疊加：最接近膠片漏光質感，同時提亮高光、壓暗陰影、增加飽和度。不透明度 10-40%。
   • 濾色 / 線性減淡：純提亮，適合構建核心高光溢出區。不透明度 5-20%。
   • 正常：直接疊加色塊，配合極低不透明度 (3-10%) 產生「色彩霧化」感，不改變底層亮度關係。

漏光效果示範作品

方法二：Alien Skin Exposure 4 專業膠片模擬外掛 (高效批量)

Exposure 4 (現已更新至 Exposure X 系列) 是業界標杆級膠片模擬外掛，內建 500+ 經典膠片預設 (柯達 Portra/Ektar/Tri-X、富士 Velvia/Pro 400H/Neopan、伊爾福 HP5/Delta 等)，並提供完整漏光、邊緣燒孔、顆粒、色彩偏移、暗角、IR 紅外等模組參數面板。

核心操作流程

1. PS 中選中圖層 (或背景圖層轉智能物件) → 濾鏡 > Alien Skin > Exposure 4。
2. 左側預設庫瀏覽：按「膠片類型」(彩色負片/正片/黑白)、「年代」(70s/80s/90s)、「效果」(漏光/拋光/褪色/交叉處理) 篩選。
3. 右側面板微調：漏光模組 (類型/位置/大小/顏色/不透明度)、顆粒模組 (粒度/粗糙度/顏色/均勻度)、色彩模組 (色相/飽和度/亮度/曲線/色調曲線/分離色調)、暗角模組。
4. 點擊「確定」回 PS，生成智能濾鏡 (若為智能物件) 或常規圖層，可隨時返回修改參數。

進階組合策略：手繪 + 外掛 混合工作流

1. 先用 Exposure 4 套用基礎膠片預設 (色彩、對比、顆粒、基礎漏光) 打好底子。
2. 回 PS，手繪漏光圖層疊加於 Exposure 效果之上，針對性強化特定區域 (如主體臉側暖光溢出、畫面右上角冷光漏光) 進行藝術性干預。
3. 最後蓋印圖層，Camera Raw 濾鏡統一微調色溫、色調、去霧、銳化輸出。

避坑指南與審美建議

• 漏光方向順應光源：逆光拍攝漏光多在畫面邊緣背光側；順光漏光少見。
• 克制原則：漏光是調味劑非主菜。單圖漏光圖層不超 3-5 層，總不透明度疊加效果不超 50%。
• 色彩協調：漏光色相需與畫面主色調形成互補或類似關係 (暖畫面配暖漏光/冷漏光點綴，冷畫面反之)，避免色彩衝突。
• 保護主體：漏光群組添加蒙版，黑畫筆擦除主體臉部、關鍵細節區漏光干擾。
• 顆粒統一：全圖統一顆粒參數 (大小/粗糙/顏色)，避免漏光區顆粒與主體不一致暴露合成痕跡。