長陰影是扁平化設計 2.0 時代的標誌性視覺語言。本教程對比演示「混合工具法」與「路徑查找器法」兩種主流製作技法的操作流程、優缺點與適用場景,助你根據項目需求選擇最高效方案。
繪製圖標圖形 (如相機、愛心、字母),繪製背景容器形狀 (正方形/圓形),確定扁平化配色方案。


複製圖標 Ctrl+F 原位貼上,移動至右下方向:水平 +100px,垂直 +100px (45° 方向),距離決定陰影長度。



複製背景容器形狀 Ctrl+F 置頂,全選 Ctrl+7 建立剪切蒙版,長陰影完美限制在圖標區域內。


對背景形狀重複上述操作,獲得整體統一的長陰影系統。

繪製與圖標等高的矩形,覆蓋陰影投射區域。


用鋼筆工具勾勒需去除的陰影區域形狀 (根據圖標輪廓外擴 45°),選中矩形與勾勒形狀,路徑查找器「減去前面」,獲得精確陰影形狀。

為陰影形狀設置顏色/漸變/透明度/混合模式,同樣用背景容器剪切蒙版裁剪。

| 維度 | 混合工具法 | 路徑查找器法 |
|---|---|---|
| 製作速度 | ⚡ 極快 (秒級) | 🐢 較慢 (需手繪去除形狀) |
| 參數可調性 | ✅ 步數/顏色/透明度隨時改 | ❌ 形狀確定後修改麻煩 |
| 邊緣精度 | 直線邊緣完美,曲線可能有微小階梯 | ✅ 完全矢量精確邊緣 |
| 適用場景 | 批量圖標、快速迭代、動畫導出 | 關鍵視覺主圖、複雜非幾何輪廓、印刷級輸出 |
| 文件體積 | 混合對象較輕量 | 擴展後路徑節點多,體積大 |