內陰影核心參數：

• 混合模式：正片疊底，顏色深灰/黑，不透明度 50-70%
• 角度：90°（或按光源方向），取消「使用全域光」
• 距離：3-8 px，噪點：0%
• 阻塞/大小：配合調整，控制陰影擴散範圍與銳度，模擬條紋凹陷邊緣厚度
• 等高線：預設線性或自定義微凸曲線

4. 關鍵結構：插入空白層 + 向下合併 + 剪貼蒙版著色

1. 在「背景層」與「結構層」之間新建空白圖層（選中背景層 → Ctrl+Shift+N）。
2. 選中「結構層」 → 右鍵 向下合併圖層（Ctrl+E）。此時「結構層」與中間空白層合併，內陰影效果被「燒錄」到新合併層像素中，形成帶陰影的透明條紋像素。
3. 新建圖層「ZQL（著色層）」，置於合併層上方，勾選「創建剪貼蒙版」（或 Ctrl+Alt+G）。
4. 在「ZQL」層上拖拉 彩虹漸變（光譜型/自定義多色標），瞬間為條紋賦予炫彩色彩，且完美保留凹陷立體感。

5. 批量複製變形豐富畫面

選中「合併結構層」+「ZQL 著色層」（Ctrl 點選）→ Ctrl+J 複製組 → Ctrl+T 自由變換（旋轉、縮放、扭曲、透視）→ 移動到新位置。重複多次，快速鋪滿畫面形成豐富構圖。

擴展變體

• 選區來源：除矩形變形，可用鋼筆勾繪任意曲線選區、文字輪廓選區、形狀工具選區。
• 內部效果替換：內陰影可換為 內發光（螢幕模式、亮色）、外發光（疊加模式）、斜面浮雕（內部凸起感）。
• 著色層玩法：漸變換為圖案填充、噪點漸變、甚至放入照片（剪貼蒙版限制範圍）。
• 動態化：將結構層/著色層轉為智能物件，配合時間軸關鍵幀動畫「變形/位移/漸變角度」，製成動態壁紙/Loading 動畫。

技巧精華

填充 0% + 圖層樣式 + 向下合併 + 剪貼蒙版著色 = 可無限編輯的「結構與色彩分離」非破壞工作流。