斜面浮雕風格圖標以其精緻的立體質感，廣泛應用於 App 圖示、UI 介面與品牌視覺設計。本教學將示範如何在 Illustrator 中，運用圓角矩形、偏移路徑、復合路徑與混合模式，快速構建具備真實光影層次的斜面浮雕效果。

一、建立基礎立方體外殼

1. 選取「圓角矩形工具」，按住 Shift 繪製正方形。拖曳時按 ↑/↓ 方向鍵調整圓角半徑至適中。
2. 填充 30%–60% 灰階線性漸變（K=30 至 K=60），用漸變工具 (G) 由上往下拖曳；加 1 px 黑色描邊。
3. 複製圖形 (Ctrl+C, Ctrl+F)，選中副本執行「物件 > 路徑 > 偏移路徑」，位移設 -3 px，得到內縮圓角矩形。
4. 選中副本與內縮形狀，建立復合路徑 (Ctrl+8)，移除描邊，透明度面板設為「正片疊底」。此即為頂面高光與側面陰影的基礎斜面。

二、深化內層斜面細節

1. 再次對原始圓角矩形執行兩次 -3 px 偏移路徑，選中產生的兩個新形狀建立復合路徑。
2. 移除描邊，透明度設「濾色」、不透明度 25%，形成內凹的次級高光。
3. 繪製白色橢圓，複製改為黑色並縮小，兩者選中執行「物件 > 混合 > 建立」(Ctrl+Alt+B)。設混合體不透明度 75%、模式「正片疊底」，置於底層 (Shift+Ctrl+[) 形成投影。

三、製作浮雕圖標主體

1. 繪製或置入簡單圖形（字母、幾何圖示皆可），連續貼在前面 (Ctrl+F) 兩次，共得三疊圖形。
2. 選中最上層，按 ↓ 方向鍵下移數像素；選中頂層兩個，開啟「路徑查找器」點「減去頂層」。設「正片疊底」、不透明度 75% → 陰影面。
3. 選中原始圖形，偏移路徑 +3 px，填黑白漸變（白在底部），透明度設「濾色」、不透明度 75% → 高光面。

四、整合與微調

將圖標置於立方體中心，適度縮放。若需更強立體感，可為頂面再疊加一層徑向漸變（白→透明，不透明度 30%），模擬環境光反射。完成後群組 (Ctrl+G) 便可作為可縮放的矢量圖標資產使用。

五、核心技巧總結

• 偏移路徑 + 復合路徑：快速產生精準平行的雙邊框，構成斜面基本結構。
• 混合模式疊加：正片疊底加深陰影、濾色提亮高光，比單純調色更自然。
• 混合工具製投影：白→黑橢圓混合產生柔和漸變陰影，優於單一羽化效果。
• 非破壞編輯：所有效果保留於外觀面板，隨時可調整參數或替換圖標主體。

掌握此工作流，你能在幾分鐘內產出媲美 3D 軟體渲染的浮雕圖標，且保持矢量優勢，完美適配 Retina/高解析度螢幕輸出需求。