本教學為斜面浮雕圖標製作的精簡版流程，針對已具備 AI 基礎操作的設計師，提煉核心步驟與關鍵參數，實現 5 分鐘快速產出。

核心步驟速覽

1. 基礎立方體：圓角矩形 (Shift 正方形) → 30-60% 灰階漸變 (上淺下深) + 1px 黑描邊 → 複製貼前 (Ctrl+F) → 偏移路徑 -3px → 選副本與偏移形狀 → 復合路徑 (Ctrl+8) → 無描邊 + 正片疊底。
2. 內層斜面：原形狀兩次 -3px 偏移 → 復合路徑 → 無描邊 + 濾色 25% 不透明度。
3. 投影：白橢圓 + 黑橢圓縮小 → 混合 (Ctrl+Alt+B) → 正片疊底 75% 不透明度 → 置底層。
4. 圖標浮雕：簡單形狀三疊 (Ctrl+F×2) → 頂層下移 → 前兩層「減去頂層」 → 正片疊底 75% → 原形狀偏移 +3px → 黑白漸變 (白在底) → 濾色 75%。

關鍵參數速查表

層級	操作	關鍵數值	混合模式/不透明度
頂面高光/側面	偏移 -3px 復合路徑	漸變 K30→K60	正片疊底 / 100%
內凹次級高光	雙重 -3px 復合路徑	純色/漸變	濾色 / 25%
投影	白/黑橢圓混合	步數 8	正片疊底 / 75%
圖標陰影面	三疊減去頂層	下移 3-5px	正片疊底 / 75%
圖標高光面	偏移 +3px	黑白漸變白在底	濾色 / 75%

進階微調建議

• 圓角半徑：圖標尺寸 64px 時建議 6-8px；256px 時 24-32px，保持視覺比例。
• 漸變角度：頂面 -90°，側面 0°/180°，配合光源一致性。
• 外觀面板封裝：將上述所有效果儲存為「圖形樣式」，一鍵套用至任意形狀/文字。

此精簡流程保留了完整版的所有核心邏輯，去除了冗長敘述，適合作為專案中的快速參考卡片。