效果預覽

素材與筆刷準備

準備一張白底素材圖。按 B 選取畫筆工具，選擇「帶陰影的畫筆」→「投影方形」→ 35 像素（PS 內建）。按 F5 開啟筆刷設定面板，勾選「散佈」並依下圖設定數值；續往「紋理」選項調整相關參數，完成專用碎片筆刷製作。

蒙版繪製碎片消失效果

背景圖層填白，素材置於上層並添加圖層蒙版。前景色設為黑色，使用剛建立的筆刷在蒙版上繪製，即可產生碎片狀消失效果。不斷調整筆刷大小繼續繪製，製造遠近大小差異與空間感。

圖章工具製作墜落方塊

複製一層素材圖並刪除蒙版，新建空白圖層。選取圖章工具 S，筆刷同樣選用「投影方形」並依圖設定參數。關鍵設定：樣本來源選「當前與下方圖層」。在空白圖層上自由繪製墜落方塊，多餘部分稍後用蒙版擦除。隨時調整筆刷大小以強化立體感。

最終微調

為畫面頂部過多碎片添加蒙版擦除多餘部分。若覺得對比度不足，可新建填充圖層填黑，混合模式改為「柔光」提升整體質感。