最終效果展示

12 步核心製作流程（文字重構）

1. 輪廓提取：鋼筆工具描繪鵝卵石自然不規則輪廓路徑 → 存為路徑。
2. 基礎色塊：路徑轉選區 → 新建圖層填中性灰/土色基調。
3. 大關係光影：確定主光源方向 → 大號柔邊畫筆低不透明度鋪設亮面/暗面大關係。
4. 紋理噪點：新建圖層填 50% 灰 → 雜色→添加雜色（單色、高斯、量 30-50%） → 濾鏡→模糊→動態模糊 依石面方向模擬紋理流向 → 模式「疊加/柔光」不透明度 20-40%。
5. 裂紋/瑕疵手繪：小硬邊畫筆、深色/亮色交替 → 繪製自然裂紋、坑洞、礦物結晶點，遵循「遠疏近密、主次分明」。
6. 高光點綴：新建圖層模式「線性添加/螢幕」 → 微小硬筆點繪高光點，對應主光源反射位置。
7. 次表面散射 (SSS) 模擬：邊緣透光帶：選區內縮羽化 → 暖色漸變 → 模式「疊加」低不透明度。
8. 環境色映射：新建圖層剪貼蒙版 → 柔邊畫筆掃環境色（天藍/地綠/暖黃）於石面轉折區。
9. 投影與接觸陰影：複製石體圖層 → 填黑 → Ctrl+T 透視變形壓扁 → 高斯模糊 → 不透明度漸變蒙版（近實虛）。
10. 底部倒影（可選）：複製石體組 → 垂直翻轉 → 疊加模式低不透明度 → 漸變蒙版淡出。
11. 整體色彩分級：色彩平衡/選擇性顏色/曲線 調整影調溫度、對比、飽和度，統一風格。
12. 銳化與輸出：濾鏡→銳化→USM銳化 微量銳化邊緣 → 導出規範尺寸 PNG/WebP。

材質表現核心心法

石材＝大關係光影 + 中高頻紋理噪點 + 低頻環境色映射 + 微觀高光/裂紋細節 + 物理正確投影倒影。
每一層都可單獨調整，非破壞工作流是修改靈活的保證。