強調觀察實物受光狀況，逐層刻畫心形暗部、高光、細節。流程：淡藍背景 → 組蒙版勾心形 → 底色淡藍 → 左側邊緣暗部漸層（大→小、正片疊底） → 左側高光 → 底部中間暗部（塗抹過渡） → 頂部暗部 → 右側暗部 → 右側蒙版限制 → 右側中間高光 → 中間大高光 → 頂部白色高光 → 左中邊緣高光 → 多層疊加高光暗部細節 → 投影雙層疊加 → 蓋印銳化 → 濾鏡加紋理。展示對稱物體光影分佈的系統性刻畫方法。

成品

步驟節點

1. 背景 #E2ECF4。
2. 組蒙版心形。
3. 底色 #A2C4FA。
4. 左側暗部三層漸進。
5. 左側高光。
6. 底部中間暗部塗抹過渡。
7. 頂部、右側暗部。
8. 右側蒙版限制區域。
9. 右側中間高光。
10. 右側邊緣高光蒙版過渡。
11. 中間大高光 #E5F3F6。
12. 頂部白色高光。
13. 左中邊緣高光。
14. 多層細節疊加。
15. 投影雙層。
16. 蓋印銳化 + 濾鏡紋理。