效果預覽

圖層結構與樣式邏輯

1280×1024px 白底，通過 10+ 圖層的圖層樣式堆疊構建：

1. 背景：填充 #537493
2. 環境光：大柔邊白筆刷單點 → 柔和環境光
3. 主體「e」字：黑色文字圖層 + 完整圖層樣式堆疊 (斜面浮雕、內陰影、內發光、光澤、漸變疊加、描邊) → 立體字體主體
4. 底部高光帶：複製 e 選區填白 → 橢圓選區刪除上部 → 不透明度 15%
5. 頂部高光帶：同法 → 疊加模式 12%
6. 藍色反光帶：#05dafa 大筆刷點一下 → 載入 e 選區加蒙版
7. 黑色陰影條：鋼筆勾選區填黑 + 圖層樣式 (內陰影/斜面浮雕) → 字體底部厚度陰影
8. 白色高光條：複製黑條 → 縮小 → 清除樣式填白 → 字體頂部捕光
9. 第二黑條：鋼筆新選區填黑 + 圖層樣式 → 字體側面厚度
10. 第二白條：複製縮小調整樣式 → 側面高光

關鍵圖層樣式參考

方法論總結

將「字體轉 3D 立體圖標」轉化為矢量鋼筆精確選區 + 圖層樣式參數化堆疊 + 高光/陰影獨立圖層疊加模式融合的標準化流程。每個光影層級 (主體立體、底部捕光、頂部高光、環境反光、側面厚度陰影/高光) 獨立圖層獨立控制，實現工業級圖標設計的精準可控與風格快速迭代。