調用入口

• 工具欄：`渲染` → `高級渲染設置`
• 菜單：`視圖` → `渲染` → `高級渲染設置`
• 命令：`RPREF`
• 面板：展開 `渲染` 面板 → `高級渲染設置`

面板結構與核心參數模塊

1. 渲染預設管理器

• 列出 4 級官方預設：`Draft` (草稿) → `Low` → `Medium` → `High` (最高質量)。
• 最多 4 個用戶自定義預設（可導入/導出 `.ars` 文件分享）。
• **建議**：項目建立專用預設（如 `ProjA_Exterior_High`、`ProjA_Interior_Medium`），一鍵切換，保證團隊出圖風格統一。

2. 渲染描述 —— 影響成像核心算法

參數組	關鍵設置	專家建議
采樣	最小樣例數 (Min Samples)、最大樣例數 (Max Samples)、過濾器類型/寬/高、對比色閾值 (R/G/B/Alpha)	**最終出大圖**：Min 1/4、Max 1~2、Mitchell/Lanczos 過濾器、寬高 2.0、對比閾值 0.05~0.1。 **草稿快速**：Min 1/16、Max 1/4、Box 過濾器、寬高 1.0。
材質	應用材質 (開/關)、紋理過濾 (開/關)、強制雙面 (開/關)	**必開應用材質**；紋理過濾開啟（防止遠處貼圖摩爾紋）；強制雙面僅薄膜/單面幾何體開啟。
陰影	啟用 (開/關)、模式 (簡化/分類/分段)、陰影貼圖 (開/關)	**高質量**：啟用、模式「分段」(最準確)、關閉陰影貼圖 (全光線追蹤陰影)。 **加速**：模式「簡化」、開啟陰影貼圖 (軟陰影需大貼圖分辨率)。
光線追蹤	啟用 (開/關)、最大深度、最大反射、最大折射	**有玻璃/水/鏡面/金屬必開**。最大深度 3~5（反射+折射總和）。最大反射 2~3，最大折射 2~3。無透明/反射物體可關閉大幅提速。
全局光照	啟用、光子/樣例、使用半徑、半徑、最大深度/反射/折射、最終采集 (啟用、光線數、半徑模式、最大/最小半徑、使用最小值)	**室內/產品特寫必開**。光子/樣例 100~500（噪點/模糊平衡）。最終采集開啟、光線數 500~2000、半徑模式「視圖」(像素單位)、最大半徑模型周長 1~5%、最小半徑 1/10 最大。室外大場景可關閉 GI 靠天光/平行光+環境光近似。

3. 渲染過程控制

• 視圖： 渲染當前視圖（不彈窗）。
• 修剪： 渲染指定矩形區域（僅目標=視口時可用），局部測試利器。
• 選擇： 只渲染選中對象（隔離調試材質/光源）。

4. 目標輸出

• 窗口： 獨立渲染窗口，可保存 BMP/TIFF/TGA/JPEG/PNG。
• 視口： 直接在圖紙空間/模型空間視口渲染，配合 `SAVEIMG` 保存。

5. 輸出文件名稱與尺寸

• 文件類型：BMP、PCX、TGA、TIF、JPEG、PNG。**推薦 TIFF (無損+Alpha) / PNG (無損+Alpha+Web) / JPEG (高質量壓縮)。**
• 輸出尺寸：預設 4 種常用分辨率 + 4 條自定義尺寸（不隨圖形保存，需預設管理器保存）。

專家級配置三大場景模板

場景	預設基礎	關鍵調整參數	預估時間 (1080p, 200 萬面)
室外鳥瞰/方案表現	Medium	關閉 GI、關閉光線追蹤、陰影模式「簡化」+陰影貼圖、采樣 Min 1/16 Max 1/4	30~60 秒
室內漫遊/效果圖	High	開啟 GI (最終采集視圖模式)、開啟光線追蹤 (深度 4, 反射 2, 折射 2)、采樣 Min 1/4 Max 1、Mitchell 2.0	5~15 分鐘
產品特寫/材質特寫	High	開啟 GI、開啟光線追蹤 (深度 5, 反射 3, 折射 3)、強制雙面開、采樣 Min 1/2 Max 2、Lanczos 3.0、紋理過濾開	10~30 分鐘

避坑與調試口訣

1. **先調光、後調材質、再開 GI/光追**；GI/光追是乘數，基礎光照材質不對，開了只會「更快得到錯誤結果」。
2. **噪點多 → 加采樣 (Max↑) 或 加 GI 光子/最終采集光線數**；**火飛/亮斑 → 降低材質 Reflection/Roughness、啟用色調映射壓制高光**。
3. **渲染慢 → 降分辨率、關 GI/光追、降采樣、簡化模型 (FACETRES↓)、用陰影貼圖代替光追陰影**。
4. **保存預設、版本控制、團隊共享**——這才是專業流程的起點。