教學簡介

本教學示範如何利用鋼筆路徑、漸層、圖層蒙版與混合模式，從單一基礎單元出發，透過複製、翻轉、拼接，構建複雜對稱的光束花紋。技法核心在於「模組化思維」與「非破壞性編輯」，適用於科技感背景、舞台視覺、UI 裝飾元素等設計場景。

最終效果預覽

核心製作邏輯：模組化構建

不直接畫完整花紋，而是先製作「基本單元」→ 複製變換組合 → 整體調色。這樣修改單元即可全域更新，極大提升效率與靈活性。

詳細步驟解析

步驟 1：建立基本單元——漸層色塊與高光結構

1. 新建 1024×768 px 文件，背景填黑。新建群組「單元 A」，用鋼筆勾選區，為群組添加蒙版限制繪製範圍。
2. 群組內新建圖層，線性漸層（右上→左下），色標自定（如青→紫→粉），不透明度 20%。
3. 鋼筆勾選底部高光區，羽化 2px，Ctrl+J 複製至新圖層，不透明度 50%。
4. 同法製作頂部高光（羽化 3px、不透明度 70%）、中部過渡高光（羽化 8px、不透明度 40%）。

步驟 2：製作鏡像單元——邊緣高光變化

1. 新建群組「單元 B」，鋼筆勾選鏡像選區，添加蒙版。
2. 複製「單元 A」的漸層圖層進入，不透明度 20%。
3. 製作左側邊緣高光（羽化 2px、不透明度 60%）、右側/中部高光，參數同理調整。

步驟 3：延伸更多單元與組合

重複上述邏輯製作單元 C、D、E……每個單元形狀、高光位置、色相略有差異。將所有單元群組排列組合，形成複雜對稱骨架。（圖 13-17 為過程示意）

步驟 4：全域對比度與合成

1. 添加「亮度/對比度」調整圖層，適度提升對比度（亮度 0、對比度 +15~25）。
2. 隱藏背景，執行 Ctrl+Alt+Shift+E 蓋印可見圖層，不透明度 50%，疊加細節。
3. 再次蓋印，下方新建黑色填充層。複製蓋印層，水平翻轉，對接成雙向對稱光束；合併後再複製垂直翻轉，形成四向輻射結構。

步驟 5：最終色調與變色

添加「色相/飽和度」或「可選顏色」調整圖層，勾選「著色」或調整色相滑桿，瞬間獲得藍/綠/紅/紫等多套配色方案。

進階延伸技巧

• 智慧物件封裝單元：將基本單元轉為智慧物件，複製實例後編輯源內容即可批量更新所有實例。
• 動作記錄自動化：將「複製→翻轉→對接→合併」錄製為動作，一鍵生成對稱結構。
• 動畫應用：在時間軸中為「色相/飽和度」色相屬性添加關鍵幀，製作循環變色動畫（GIF/MP4）。
• 結合 3D：將光束單元作為貼圖映射到 3D 圓環/螺旋模型，生成立體光雕效果。