「內陰影」是賦予平面圖層凹陷感、厚度感、內凹立體感的核心樣式。不同於投影的「外部投射」，內陰影模擬的是光源照射球體或凹槽時，在物體內部邊緣產生的陰影遞減。本文逐項拆解所有參數，並以「光源邏輯」為線索，幫你建立直觀的參數-效果心智模型。

參數面板全景速查

參數	核心作用	默認值	調整直覺
混合模式	陰影與下層混合算法	正片疊底	通常保持，特效可改正常/線性疊加
顏色	陰影顏色	黑色	深色系為主，配合場景色溫微調
不透明度	陰影濃度	75%	越大越深、越立體；淺浮雕可降至 30%
角度	光源方位（指針指向光源）	120°	全域光勾選時聯動投影/斜面浮雕
距離	陰影向內偏移量	5px	距離大 → 光源偏斜 → 凹陷感強/偏移感強
阻塞	邊緣漸變銳度（0-100%）	0%	配合大小：大小時阻塞效果不明顯
大小	陰影擴散/羽化範圍	5px	大小大 → 光源散射大 → 陰影暈開範圍廣
等高線	陰影亮度剖面曲線	線性	自定義可產生多重光環/金屬倒角感

關鍵參數視覺邏輯深度拆解

角度與距離：光源位置的雙重編碼

• 角度決定光源在水平面的方位（如左上 120°）。
• 距離決定光源仰角的偏離度：距離=0 時光源正上方，陰影均勻包裹；距離增大，光源傾斜，陰影向對側集中，形成明顯的「單側深陷」視覺。

距離小：光源近似頂光，陰影均勻
距離大：光源偏斜，陰影明顯偏移

阻塞與大小：邊緣過渡的「剛柔並濟」

• 大小設定陰影總寬度（羽化半徑）。
• 阻塞壓縮漸變過渡區：0% 最平滑，100% 最銳利（接近硬邊）。實戰口訣：大小大時阻塞才顯效果。

等高線：從「單一陰影」到「多重倒角」的進階鑰匙

預設線性等高線產生單一平滑過渡。若編輯為多波峰波浪線，即可在陰影內部產生亮環/暗環交替，模擬金屬倒角、玻璃倒角、多層疊加模具痕跡。

自定義雙波峰等高線
產生雙重光環的內陰影效果

實戰場景速查表

目標效果	關鍵參數設定
淺淺內凹（按鈕按下態）	距離 1-2px、大小 1-3px、阻塞 0%、不透明度 30%
深切凹槽（刻字/模具）	距離 5-10px、大小 8-15px、阻塞 20-40%、不透明度 75%
金屬倒角/多層折光	自定義等高線（多波峰）、大小 10px+、阻塞 50%+
玻璃/水晶內折光	顏色改深藍/深綠、混合模式正片疊底、大小較大、配合內發光

內陰影的本質是「用陰影定義內部體積」。下次調參數時，腦中浮現「一束光照進碗裡」的畫面，距離是光源偏斜、大小是光束散度、阻塞是碗壁粗糙度、等高線是碗壁波紋——參數就會變成可預測的設計語言，不再是盲目試錯的數字遊戲。