設計規範與畫布設定

• 畫布： 1024×1024 px（高解析度利於細節，最終可縮輸出 512/256/128 px 多尺寸）
• 背景： 置入紋理背景（布紋/金屬拉絲/碳纖維），貼合整體風格
• 色系： 金色系（#7a5511, #c9a84c, #fff8d0, #3d2b0f）+ 深綠雷達盤面（#24fa38）
• 圖層結構策略： 背景組 → 邊框組 → 盤面組 → 元素組 → 掃描線組 → 外環組，每組獨立可控

第一階段：金屬邊框構建（圖層蒙版布爾運算）

1. 外圓： 橢圓選框工具按 Shift+Alt 中心點拉 500×500 px 正圓 → 填充黑色 → 命名「circle」
2. 內圓： 複製 circle → Ctrl+T 縮小至合適內徑 → 命名「inner circle」
3. 布爾扣除得圓環：
   1. 隱藏 inner circle
   2. Ctrl 點擊 inner circle 縮圖載入選區
   3. 選中 circle 圖層 → 圖層 → 圖層蒙版 → 「隱藏選區」
   4. 結果：circle 變為圓環狀蒙版，非破壞性保留外圓形狀
4. 金屬質感圖層樣式：

   樣式	關鍵參數
   投影	混合模式正常，顏色深棕，不透明度 40%，距離 3px，大小 5px
   內陰影	混合模式正片疊底，顏色深金，角度 -90°，距離 5px，噪點 5%
   斜面與浮雕	外斜面、平滑、深度 200%、方向向上、大小 10px、柔化 3px、高光模式線性減淡（白）、陰影模式正片疊底（深金）
   顏色疊加	金色 #c9a84c，混合模式正常，不透明度 30%

第二階段：內盤面與高光反射

1. 內圓漸變底色： 顯示 inner circle → 複製命名「small circle」 → 圖層樣式 → 「漸變疊加」：線性、角度 90°、色標：上 #3d2b0f → 中 #7a5511 → 下 #c9a84c，高光區靠下
2. 頂部高光筆繪：
   1. small circle 上新建圖層「top light」
   2. Ctrl 點擊 small circle 縮圖載入選區
   3. 畫筆：硬度 0%，顏色 #7a5511，流量 5-10%，多次疊繪頂部高光帶
3. 邊框反射光環：
   1. 新建圖層「border light」
   2. Ctrl 點擊 circle 縮圖載入選區 → 加圖層蒙版
   3. Ctrl 點擊 inner circle 縮圖 → 在蒙版上填充黑色 → 得到環形蒙版
   4. 同樣畫筆參數在環形區域繪製反射高光

第三階段：雷達盤面元素（elements 組，混合模式「顏色減淡」）

1. 組設定： 新建組「elements」→ 混合模式「顏色減淡」 → 組加蒙版（選區用 small circle） → 所有元素自動限制在盤面內
2. 座標軸：
   1. 新建圖層「x line」→ 矩形選框拉細線 → 白色填充 → 高斯模糊 0.5 px → 不透明度 70%
   2. 複製 → 命名「y line」→ Ctrl+T 旋轉 90°
3. 同心圓刻度環：
   1. 橢圓工具（U）按 Shift 拉正圓 → 填充 0% → 圖層樣式：「描邊」（1 px，漸變填充，金色系，角度 90°）+「內發光」（淺金，大小 5px）
   2. 複製圖層 → Ctrl+T 放大 → 重複得多層同心圓
4. 目標點： 新建圖層「spot」→ 硬度 0% 白筆，不透明度/流量 100%，點擊佈局
5. 刻度尺： 同座標軸方法，矩形選框拉短線 → 高斯模糊 0.5 px → 70% 不透明度 → 旋轉複製分佈

第四階段：掃描線與掃射區域

1. 掃描線：
   1. 矩形工具拉細長條 → 直接選擇工具（A）調整節點成扇形
   2. Ctrl+T 旋轉 45° → 置於原點位置
   3. 無圖層樣式，純白色底
2. 掃射面積：
   1. 鋼筆工具勾勒平滑扇形路徑（貼合圓弧） → 新建圖層「scan area」填充白
   2. 關鍵： 將圖層移出 elements 組 → 放置於 elements 上方 → 混合模式改「濾色」
   3. 填充 0% → 圖層樣式 → 僅開啟「漸變疊加」：
      • 混合模式：顏色減淡（添加）
      • 樣式：角度
      • 勾選「與圖層對齊」
      • 漸變：透明→白→透明，鼠標拖動對齊原點

第五階段：外環綠色光暈

1. 橢圓工具拉正圓（略小於黑色外環） → 形狀圖層顏色 #24FA38（螢光綠）
2. 用 small circle 選區加蒙版 → 命名「inner border」
3. 圖層樣式：投影（外發光感）+ 內陰影 + 斜面與浮雕（內斜面）+ 顏色疊加（疊加模式）+ 外發光（綠色，大小 20px）+ 描邊（1px，漸變）
4. 參數需根據實際圖標大小微調，保持視覺平衡

關鍵技術總結表

技術	應用對象	核心要點
蒙版布爾運算	外圓環	大圓蒙版隱藏小圓選區，非破壞性
斜面與浮雕	金屬邊框/外環	外斜面/內斜面 + 高光陰影模式模擬金屬
組混合模式	elements 組	「顏色減淡」統一發光特性，蒙版限制範圍
矢量形狀可編輯	同心圓刻度	複製縮放保持銳利，樣式同步更新
角度漸變+對齊	掃射區域	模擬雷達掃描光暈旋轉感
智能物件/矢量	全流程	隨時可縮放輸出多尺寸，無損畫質

輸出建議

• 完成後將所有組轉為智能物件，命名「Scanner_Icon_Master」
• 複製智能物件 → Ctrl+T 縮放輸出 512/256/128/64/32 px 版本
• 匯出 PNG（透明背景）或 WebP，供 iOS/Android/Web 多平台使用
• 源檔保留圖層結構，便後續修改顏色/比例/細節

「圖標設計的精髓在於：有限畫面內的無限細節。每一個高光、每一條刻度、每一層疊加模式，都是為了在 32px 甚至 16px 時依然清晰可辨、質感可感。」