次世代遊戲場景藝術家 Grzegorz Wisniewski 分享個人專案。受限於引擎面數與貼圖尺寸的日常工作之餘，此專案專注測試材質技能並完整呈現一張場景概念圖。約三週業餘時間完成。

最終效果圖

參考蒐集與低模灰盒

大量蒐集參考照片（圖 01）是必要前置作業。先建低模灰盒確立構圖、相機角度、基礎布光（圖 02），再疊加裂縫、風化細節提升真實感。

圖 01：參考照片板

圖 02：低模灰盒與構圖

小道具豐富環境敘事

地面散佈大量小道具（圖 03-04），認為「環境真正的力量在於細節」，將想像轉化為可信現實。

貼圖與 UV：平面投影 + 手繪細節 + 法線/反射/遮罩多通道

• UV：平面映射展開，修正重疊邊緣，主建築貼圖 2K 解析度。
• 基礎材質：標準 Maya 著色器 + 法線/漫反射/反射/特殊遮罩貼圖；小物件用 MR 材質。
• 細節疊加流程：基礎材質 → 調色對比 → 加入小元素（圖 05）→ 避免過重感。小距離烘焙 AO 找尋需加強細節區域（圖 06）。多素材來源時保持紋理密度一致。

法線貼圖製作：NVIDIA 插件 + CrazyBump + 手繪補強

移除灰圖雜訊（污點、塗鴉）→ 材質基礎模糊/對比/透明度控制景深。法線仍平坦時，手繪石縫增強深度（圖 07）。

渲染與布光：Mental Ray 物理天光 + 隱藏投影體

Modified Physical Sun & Sky 系統（圖 08），補充發光點強化細節，隱藏幾何體投射陰影豐富層次。

結語

享受紋理創作樂趣，滿意最終成果。希望能給同好啟發。